工业半导体行业清洗二级纯水设备-伟志纯水设备、苏州纯水设备

马曼曼：18913180175

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特点：在设备设计上，采用成熟、可靠、先进、自动化程度高的两级RO＋EDI＋精混床除盐水处理工艺，全膜法处理工艺：UF+二级RO+EDI+抛光混床。确保处理后出水电阻率达到18 MΩ.CM以上。保证产品质量的需求！

  参数：污染物去除率脱盐率：99.8% 有机物去除率：>150MW 细菌隔除率：>99% 热原去除率：>99% 颗粒去除率：>99% 进水要求：污染指数(SDI)：<5 余氯：<0.1mg/L PH：5-8